A partir do momento que os Estados Unidos impuseram sanções ao uso de tecnologia feita nos EUA para países estrangeiros (China), a indústria de fabricação de semicondutores chinesa pareceu que iria parar completamente na ocasião. Isso ocorreu porque sem as ferramentas para manufaturar o silício, os fabricantes chineses teriam que se voltar a outros países para procurar uma solução viável. Porém, como a administração americana decidiu fazer com o que o silício parasse de chegar às mãos de companhias chinesas, isso se provou impossível justamente porque muitas partes do processo de manufatura são feitas nos EUA, então eles teriam a capacidade de restringir seu uso.

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E ainda que exista um bom número de companhias que produzam semicondutores na China, utilizando tecnologias de fabricação feitas em Tianxia, todas essas empresas utilizam equipamentos de produção desenvolvidos e criados em outros países como Japão, Holanda e Estados Unidos.

Entretanto, surgiram informações que a Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) desenvolveu um Deep Ultraviolet (DUV) lithography scanner pronto para entrega ainda em 2021. Com o intuito de começar as entregas no quarto trimestre de 2021, a SMEE desenvolveu este DUV scanner para produção de nodos 28nm. Embora não seja um dos mais avançados que temos hoje em dia, é um passo importante na independência chinesa na fabricação de tecnologia. A ASML, empresa holandesa responsável por fornecer sistemas de litografia, costumava ser uma das poucas opções neste ramo, porém acabou de ganhar um novo competidor. 

Créditos: Shanghai Micro Electronic Equipment

Hoje as máquinas mais avançadas da SMEE produzem chips em 280m, 110nm e 90nm. Utilizando a mesma base tecnológica, seria possível a criação dos chips em 28nm, bem como 40nm, 55nm e 60nm. A SMEE pretende, inclusive, passar a utilizar 20nm em meados de 2023.

Porém, embora estes avanços sejam significativos para a indústria chinesa, há ainda um elemento crucial para o desenvolvimento de semicondutores e que ainda utiliza tecnologia estrangeira: as ferramentas de automação de design eletrônico avançado são provenientes de empresas situadas nos EUA. Até que as companhias chinesas possuam ferramentas que possam competir com as desenvolvidas pela Cadence, Mentor Graphics ou Synopsys, todos os chips desenvolvidos na China serão projetados utilizando software americano.