A GlobalFoundries anunciou hoje o planejamento para entregar em breve a tecnologia de 7nm FinFET. A litografia representa a próxima geração de aplicações para computadores e promete um grande salto em performance. Com mais poder de processamento, os 7nm FinFET são indicados para a indústria, data centers, aplicações em networking/deep learning e processadores mobile. 

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Esperado para entregar 30% a mais de performance, se comparado com as litografias de 14nm e 16nm, o FinFET 7nm possui compatibilidade com a tecnologia EUV (Extreme Ultraviolet ou Fotolitografia Ultravioleta Extrema). Já era especulado que a GlobalFoundries iria pular os 10nm direto para os 7nm. Esta abordagem vai acelerar a curva de produção da nova arquitetura, reutilizando os processos de fabricação da geração de 14nm.

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A litografia FinFET 7nm da GlobalFoundries já está sendo testada. A tecnologia poderá ser lançada no segundo semestre de 2017. Essa não é a primeira vez que a GlobalFoundries "pula" tamanhos em transistores. A empresa californiana fez um salto dos 28 nanômetros diretamente para os 14 nanômetros FinFET, tecnologia licenciada da Samsung e utilizada em produtos como os chips gráficos Polaris da AMD. 

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